ニュースリリース | ||||||
このニュースリリース記載の情報(製品価格、製品仕様、サービスの内容、発売日、お問い合わせ先、URL等)は、発表日現在の情報です。予告なしに変更され、検索日と情報が異なる可能性もありますので、あらかじめご了承ください。なお、最新のお問い合わせ先は、お問い合わせ一覧をご覧下さい。 |
2002年6月24日 | ||||||||||||
|
||||||||||||
日立製作所(社長:庄山 悦彦 以下、日立)は、このたび、磁界(磁気的な力の場)の分布を、ナノメートルスケールで可視化する新しい観察技術を開発しました。この技術を、磁気ディスク装置の開発に応用したところ、磁気ヘッド表面から30ナノメートル領域の記録磁界(磁気情報をディスクに書き込む際に発生する磁界)を可視化することに、世界で初めて成功しました。本技術は、磁気ヘッドと媒体の隙間がナノメートルスケールとなる、100ギガビット/平方インチ(Gb/in2)(6.45平方センチメートル)クラスの磁気ディスク装置の開発加速や高信頼化に、大きく貢献する計測技術です。 磁気ディスク装置は、現在、記憶容量が数十ギガバイトの製品が市販されていますが、加速するIT(Information Technology)社会の拡大とともに、今後も記憶容量は、年率100%の割合で増大すると言われています。この大容量化に対応するためには、より微小な領域に、より多くの情報を書き込むための技術革新が必須です。将来、記録容量が、面積密度で100Gb/in2クラスになると、磁気ヘッドは、磁気ディスクから10ナノメートル(10万分の1ミリメートル)以下の間隔を保ちながら、200ナノメートル程度の範囲に磁界を発生させて、情報を記録するようになります。つまり、磁気ヘッド表面から10ナノメートル以下の、微小な領域における記録磁界分布の制御が必要です。 このような背景から、日立では、ヘッド表面から30ナノメートル以内の、極近傍での記録磁界分布を可視化する技術を開発しました。この技術は、原子の観察に用いられている透過型電子顕微鏡を応用したものです。開発技術の特徴は、次の通りです。
今回、本技術を40Gb/in2クラスの磁気ヘッド記録磁界の評価に適用し、ヘッド表面から30ナノメートルの位置で、記録磁界分布の観察に成功しました。これによって、磁気ヘッドの形状や材質などの設計パラメータと記録磁界の関係を詳細に調べ、磁気ヘッドの性能を高めるための設計指針を得ることができました。日立では、今後、本技術を、100Gb/in2を超える磁気ディスク装置向け磁気記録ヘッドの単体性能を評価する技術として活用し、磁気ディスク装置の高性能化・高信頼化に貢献していきます。 ■用語説明 |
||||||||||||
以 上 |
(C) Hitachi, Ltd. 1994, 2002. All rights reserved. |